電鍍設備工藝要求有什麽？

1.鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。

2.鍍（dù）層（céng）應結晶細致、平整、厚度均勻。

3.鍍層（céng）應具有規定的厚度和盡可能少的孔（kǒng）隙。

4.鍍層應具有規定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性等。

5.電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。

6.環（huán）境溫度（dù）為（wéi）-10℃~60℃。

7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

8.水處理設備最大（dà）工作噪聲應不（bú）大於80dB(A)。

9.相（xiàng）對（duì）濕度(RH)應不大於95%。

10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。